知的財産ニュース 韓国特許庁、半導体素材メーカーと知財懇談会を実施

強い特許権により次世代半導体素材の国産化を図る！

韓国特許庁は11月6日水曜日、（株）トンジンセミケム（京畿道華城市所在）にて半導体素材産業における知財競争力の強化に向けた懇談会を開くと発表した。

今回の懇談会は、半導体の超微細化に向けた技術競争が激しい中で、微細化に欠かせない素材である極端赤外線（EUV）レジストの国産化を率いる（株）トンジンセミケムを訪問し、韓国の半導体素材産業から知財に関わる相談を聞き、当該技術への審査官の理解を高めるために設けられた。

懇談会で同社は最新半導体のフォトレジスト関連技術について説明し、特許庁は半導体分野の特許出願に対する優先審査など関連政策や半導体素材分野における特許出願動向の分析結果を共有する考えだ。

特許庁の半導体審査推進団長は「今回の懇談会は、次世代半導体素材分野の特許に関する統計データを国内企業に提供し知財権をめぐる懸案を共有することで、相互の理解の幅を広げる良い機会となると期待する」とし、「特許庁は半導体素材分野で韓国企業が知財の競争力を高めていけるよう産業界と引き続き意見交換を重ねていく」と述べた。